最新の活動報告Latest report
第22回 酸化グラフェンナノシートシンポジウム
第22回酸化グラフェンナノシートシンポジウムは現地とオンラインのハイブッリド形式で開催し、大盛況のうちに終了しました。招待講演の題目をクリックすると発表資料がご覧になれます(会員様限定)。一部公開不可な資料がございます。ご了承ください。令和7年 6⽉30日(月)-7月1日(火)
場所：産総技術総合研究所つくばセンターおよびオンライン開催
＜ポスター賞受賞者＞
最優秀ポスター賞 YAWANOPAS Benyapa （熊本大学)
優秀ポスター賞 甲斐 空大（熊本大学)
谷脇 優吾（熊本大学)
中村 颯太（千葉大学)
近藤 宏汰（千葉大学)
＜プログラム＞
令和7年6月30日(月)
13:30-13:40 総会
13:40-13:45 休憩
13:45-14:15 緒明 佑哉 先生（慶応義塾大学）
「柔軟性を制御した二次元材料の設計・合成・応用」
14:15-14:45 津川 樹 さん（熊本大学）
「Brodie法を用いた高結晶酸化グラフェンの合成と機能開拓」
14:45-15:15 畠山 一翔 先生（熊本大学）リサーチレビュー
「酸化グラフェンの最新の研究動向」
15:15-15:30 休憩
15:30-17:30 ポスター発表
19:00- 懇親会（つくば駅近傍）
令和7年7月1日(火)
9:30-10:00 岡田 光博 様（産業総合技術研究所）
「二次元材料のCVD合成と機能制御」
10:00-10:30 滝本 大裕 先生（琉球大学）
「白金ナノシートの創製と2.5D触媒の開発」
10:30-11:00 川合 航佑 先生（東北大学）
「導電性二次元物質MXeneの電荷貯蔵」
11:00-11:30 速水 真也 先生（熊本大学）
「新しいタイプの酸化グラフェンの合成と現在の展開」
11:30-11:45 閉会
11:45-13:00 昼食＋ポスタービュー
13:00-14:30 産業総合技術研究所見学（希望者）
14:30- 懇親会
ご参加いただいた皆さまありがとうございました。
＜アルバム＞
写真はこちらからダウンロードできます。
酸化グラフェンナノシート学会
〒860-8555
熊本県熊本市中央区黒髪2丁目39-1
TEL：096-342-3469
FAX：096-342-3469
E-mail：
gokenkyu*kumamoto-u.ac.jp