第22回酸化グラフェンナノシートシンポジウム 開催要項
第22回酸化グラフェンシンナノシートシンポジウムは対面およびオンラインにて開催致します。詳細は以下をご覧ください。
主催:酸化グラフェンナノシート学会
後援:日本化学会
会期:令和7年6月 30日(月)-7月1日(火)
6月30日(月)13:00~17:00
7月 1日(火) 9:30~15:00
会場: 産総技術総合研究所つくばセンターおよびオンライン開催
〔住所〕〒305-8561
茨城県つくば市東1-1-1 つくばセンター 中央事務所
〔交通〕JR常盤線「荒川沖駅」または「つくば駅」から
バス「並木二丁目」で下車、徒歩3分。
発表申込締切:令和7年6月6日(金)
予稿原稿締切:令和7年6月20日(金)予稿原稿テンプレート
参加登録予約申込締切:令和7年6月 13日(金)
発表形式:招待講演・口頭発表・ポスター発表
招待講演および口頭発表は対面とZoomによるハイブリッド形式にて、ポスター発表は対面にて実施致します。 招待講演後の口頭発表者およびポスター発表者を募集しております。なお、口頭発表は現地で発表される方を優先し、多数のご応募があった際はポスター発表に変更していただく場合がございますので、予めご了承ください。
詳細はお申し込み後に別途ご連絡致します。発表内容は、酸化グラフェンをはじめとする炭素材料や、金属ナノシート等の二次元材料に関するものとします。
<プログラム>
令和7年6月30日(月)
13:00-13:40 総会
13:40-13:45 休憩
13:45-14:15 緒明 佑哉 先生(慶応義塾大学)
「柔軟性を制御した二次元材料の設計・合成・応用」
14:15-14:45 津川 樹 さん(熊本大学)
「Brodie法を用いた高結晶酸化グラフェンの合成と機能開拓」
14:45-15:15 畠山 一翔 先生(熊本大学)リサーチレビュー
「酸化グラフェンの最新の研究動向」
15:15-15:30 休憩
15:30-17:30 ポスター発表
19:00- 懇親会(つくば駅近傍)
令和7年7月1日(火)
9:30-10:00 岡田 光博 様(産業総合技術研究所)
「二次元材料のCVD合成と機能制御」
10:00-10:30 滝本 大裕 先生(琉球大学)
「白金ナノシートの創製と2.5D触媒の開発」
10:30-11:00 川合 航右 先生(東北大学)
「導電性二次元物質MXeneの電荷貯蔵」
11:00-11:30 速水 真也 先生(熊本大学)
「新しいタイプの酸化グラフェンの合成と現在の展開」
11:30-11:45 閉会
11:45-13:00 昼食+ポスタービュー
13:00-14:30 産業総合技術研究所見学 (希望者)
14:30- 解散
<懇親会>
別途ご連絡致します。
懇親会の参加申し込みは、下記の<参加登録予約・発表申込方法>に記載の"Googleアンケート"よりお願い致します。
※先着20名様となりますので、お早めにお申し込みください
<参加登録費>
大学関係者:無料
法人会員:無料(何名様でも参加可能です)
非法人会員:5万円
※学生や若手研究者でポスター発表を行う場合、参加費を補助します。
申込締切は5月9日(金)です。
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今年度の応募は終了致しました。
<参加登録予約・発表申込方法>
こちらからご応募ください。(Googleアンケート)
【申込先/お問合せ先】
gokenkyu@kumamoto-u.ac.jp