主要な実験装置
当研究室の中核となる、ナノ微細加工および先端物性評価のための主要装置です。
電子線描画装置 (Electron Beam Lithography System)
用途：微細パターン描画・デバイス作製
電子線レジストに対して、ナノメートルスケールの高精度な電子ビーム描画を行います。最先端の量子ナノデバイス構造の作製に不可欠なシステムです。
走査型プローブ顕微鏡 (SPM / AFM)
用途：原子レベルの表面形状観察・ナノ加工
微小な探針を用いて試料表面を走査し、極微細な凹凸や局所的物性を高分解能で観察・測定します。陽極酸化法などによるナノ加工を行うことも可能です。
電気伝導測定装置 (PPMS)
用途：極低温・強磁場下における電気伝導特性の測定
液体ヘリウム冷却による極低温環境や磁場を印加した環境のもとで、量子ナノデバイスの電気特性や磁気抵抗効果などを評価します。（2026年度より、東京大学物性研究所に設置して、熊本大学と東京大学で共用しています。）
その他の実験装置
デバイス作製や測定を行うための装置一覧です。
- 蒸着装置（抵抗加熱型）
- 赤外線加熱炉
- プラズマクリーナー
- スピンコーター
- 金属顕微鏡
- ワイヤーボンダー
- マニュアルプローバー
- ロックインアンプ
- ソースメーター
- エレクトロメーター
- LCRメーター
- ファンクションジェネレーター
- デジタルオシロスコープ
- スペクトラムアナライザー
学内の共用設備
学内共同利用施設や半導体研究拠点（SOIL）等に設置されており、研究活動において活用している共用設備です。
- RIEエッチング装置
- 透過型電子顕微鏡（TEM）
- 原子層堆積（ALD）装置
- 集束イオンビーム（FIB）装置